時(shí)刻關(guān)注光刻機(jī)技術(shù)進(jìn)展的孫健，如今還沒有聽說臺(tái)積電的林博士在國際半導(dǎo)體研討會(huì)上提出研發(fā)“沉浸式光刻”的設(shè)想。
“沉浸式光刻”就是在晶圓光刻膠上方加一層水，水的介質(zhì)折射率是1.44，193nm/1.44≈134nm，在不改變光刻機(jī)波長情況下，變相擴(kuò)大了NA，使得193nm波長的能等效出134nm的波長。
前世，林博士拿著這項(xiàng)“沉浸式光刻”方案，跑遍美國、德國、日本等國，游說...