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新科學(xué)時(shí)代

第114章 改造方案

新科學(xué)時(shí)代 康泓 2270 2020-09-12 21:58:34

  郭一連續(xù)好幾天都在A1廠出沒,尋找這可以提升芯片制造工藝的關(guān)鍵點(diǎn)。

  材料熱膨脹相互的影響,光的衍射對(duì)于光刻的影響,線寬控制的幾個(gè)常規(guī)改進(jìn),光學(xué)近距效應(yīng)修正,硅片平臺(tái)水平控制的關(guān)鍵因素,光刻膠涂膠工藝的改進(jìn)……

  ……

  隨著每天在工廠觀摩推演芯片制造的整個(gè)流程,郭一的小本本上記滿了各種可以對(duì)工藝有明顯改進(jìn)的方法。

  “安叔,召集工程師們,開會(huì)?!?p>  郭一雖...

康泓

還有一章,會(huì)稍晚一些,但會(huì)在12點(diǎn)之前。

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